產(chǎn)品介紹

化學發(fā)光成像技術也可以應用于材料科學領域。例如，可以利用該技術來檢測聚合物的分子量和分子量分布，以及研究聚合物的微觀結構和形態(tài)。此外，化學發(fā)光成像技術還可以用來研究材料的表面和界面性質，以及材料的物理和化學性能?；瘜W發(fā)光成像技術還可以應用于化學分析領域。例如，可以利用該技術來檢測化學反應的產(chǎn)物和中間產(chǎn)物，研究化學反應的動力學過程和機理。此外，化學發(fā)光成像技術還可以用來檢測氣體污染物和環(huán)境污染物等。

一、產(chǎn)品介紹：
化學發(fā)光成像儀，搭載更高效率相機及相應硬件配置，成像速度更快，畫質更好。化學發(fā)光成像儀機箱面板配有一鍵拍攝按扭，無需軟件操作，即可進行一鍵拍攝，得到優(yōu)質的曝光圖片。
二、應用范圍：
化學檢測：WesternLighting、ECL、ECLplus、CDPStar、SuperSigal、CSPD、LumiGlo等發(fā)光底物。
三、產(chǎn)品特點：
1、600萬高分辨率相機和高靈敏度鏡頭,保證高質量的成像效果。
2、機身采用抗沖擊性、耐熱性、耐低溫材料，抽屜式開門設計，節(jié)省空間，簡化操作步驟，并且保證了密閉性。
3、一鍵拍攝,無需摸索曝光時間自動進行預估、拍攝。
四、技術參數(shù)：
體積小巧，節(jié)省實驗空間，整機尺寸僅340*375*600(L×W×H)；
攝像頭：進口高分辨低照度攝像頭
相機：深度制冷科研級CCD
有效像素：2688×2200(600萬)
像素合并：1×1，2×2，4×4，6×6，8×8，12×12，16×16
像素密度：16bit(0～65536灰階）
像素點大?。?.54×4.54μm
感光效率：75%
動態(tài)范圍：4.6個數(shù)量級
暗電流:<0.0005e-/pixel/sec.@-40oC
制冷方式：半導體制冷
制冷溫度：可低于環(huán)境溫度75℃，軟件界面實時顯示
鏡頭:標配F0.8高清大光圈高通透定焦鏡頭
落射白光：兩側LED白光
樣品臺：抽屜內(nèi)嵌可自由取放特制發(fā)光底板，便于放膜、加光發(fā)液，方便操作
拍攝面積：16x16cm
電腦控制：高度程序化，集成軟件系統(tǒng)，對設備進行控制及參數(shù)設置
定時關燈：1-60分鐘無操作關閉光源
結構：密閉無光泄露，微處理器控制暗箱
五、智能軟件:
1、軟件兩種登陸模式，免密登陸和多用戶密碼登陸?？稍O置權限，便于操作管理。
2、圖像拍攝：光源/鏡頭/相機控制，自動/手動曝光、自動/手動對焦、圖像拍攝、圖像管理
3、圖像處理：調整亮度、對比度、Gamma、圖像旋轉、圖像反色、圖像裁切、圖像縮放,圖像染色、圖像合并
4、兩種拍攝模式：單張、多張，滿足不同用戶的使用習慣，可選擇是否拍攝Marker，可更改圖像顯示格式；多張模式設有自動（5連拍、10連拍）、手動多張拍攝（不限張數(shù)）、信號累積模式拍攝。
5、一鍵式成像，無需調整曝光參數(shù)，簡化成像操作；可框選特定區(qū)域，對選定區(qū)域進行自動預估、曝光，提升自動曝光精準度。
6、操作軟件自帶直接打印窗口。網(wǎng)格線功能，選中后，圖片界面出現(xiàn)均勻排布綠色網(wǎng)格線，并且專設可移動紫色橫線，固定綠色框線與移動紫線相配合，方便參照對比Marker。
7、設有圖像默認保存路徑，無需手動保存；也可在拍攝前自定義保存路徑，當次拍攝圖片自動存入所選路徑，拍攝完成退出軟件后，下次進入自動恢復默認路徑，防止存儲混亂。
8、其他分析功能：菌落、斑點雜交\克隆計數(shù)。
9、數(shù)據(jù)導出：結果可導出到Excel。
11、軟件可中英文任意切換，軟件免費升級、培訓，整機質保三年。

六、配置清單：

1. 成像主機，1臺;
2. USB數(shù)據(jù)線，1套;
3. 電源線，1根;
4. 合格證/保修卡,1份;
5. 樣品板,1份;
6. 軟件U盤, 1個;